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氮化硅膜的制造方法已知，传统的高拉伸应力氮化硅膜是在热炉管设备中，以高于摄氏600度的低压化学气相沉积法（LowPressureChemicalVaporDeposition,LPCVD）所制造。然而，由于如此的高。

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